Suministro e instalación de un sistema de grabado por haz amplio de iones (Broad Ion Beam Etching System) destinado al Instituto de Microelectrónica de Barcelona – Centro Nacional de Microelectrónica de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas.

Duración y prórrogas

Duración: 16 meses

Criterios de adjudicación

• Oferta económica(Automático)Ponderación: 49.5
• Mejoras y/o aportaciones adicionales evaluables mediante fórmula(Automático)Ponderación: 30
• Plazo de garantía(Automático)Ponderación: 10
• Calidad del equipamiento(Juicio de valor)Ponderación: 7.5
• Innovación tecnológica del suministro(Juicio de valor)Ponderación: 2
• Cursos de formación adicional a la requerida en el pliego de prescripciones técnicas.(Juicio de valor)Ponderación: 1

Solvencia económica y financiera

• Según anexo 3 del PCAP. La solvencia económica la cumplimentarán en el DEUC en uno de los dos apartados opcionales, según el licitador y su circunstancia podrá elegir entre: 1.- Cuentas anuales. 2.- Otros requisitos económicos o financieros (para el licitador que no pueda presentar las cuentas anuales). Cuando se requiera al licitador mejor valorado, tendrá que acreditar la solvencia económica conforme cumplimentó el DEUC.

Solvencia técnica o profesional

• Según anexo 3 del PCAP.

Garantías

• Especial: 5 %
• Definitiva: 5 %

Requisitos específicos

• Cumplimiento con las obligaciones tributarias
• Para las empresas extranjeras, declaración de sometimiento a la legislación española.
• Capacidad de obrar
• Cumplimiento con las obligaciones con la Seguridad Social