Suministro e instalación de un equipo de deposición química de vapor asistida por plasma PECVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) de capas dieléctricas, destinado al Instituto de Microelectrónica de Barcelona de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas.

Duración y prórrogas

Duración: 10 meses

Criterios de adjudicación

• Oferta económica(Automático)Ponderación: 72
• Mejoras y/o aportaciones adicionales evaluables mediante fórmula(Automático)Ponderación: 10
• Plazo de garantía(Automático)Ponderación: 10
• Calidad del equipamiento(Juicio de valor)Ponderación: 5
• Innovación tecnológica del suministro(Juicio de valor)Ponderación: 2
• Cursos de formación adicional a la requerida en el pliego de prescripciones técnicas.(Juicio de valor)Ponderación: 1

Solvencia económica y financiera

• Según anexo 3 del PCAP. La solvencia económica la cumplimentarán en el DEUC en uno de los dos apartados opcionales, según el licitador y su circunstancia podrá elegir entre: 1.- Cuentas anuales. 2.- Otros requisitos económicos o financieros (para el licitador que no pueda presentar las cuentas anuales). Cuando se requiera al licitador mejor valorado, tendrá que acreditar la solvencia económica conforme cumplimentó el DEUC.

Solvencia técnica o profesional

• Según anexo 3 del PCAP.

Requisitos específicos

• Cumplimiento con las obligaciones tributarias
• Para las empresas extranjeras, declaración de sometimiento a la legislación española.
• Cumplimiento con las obligaciones con la Seguridad Social
• Capacidad de obrar